電子超純水一般工藝流程：

　　(水質符合美國ASTM標準，電子部超純水水質標準(18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級)

　　典型工藝2:原水→預處理→反滲透→EDI→精密過濾→用水點

　　·預處理-反滲透-中間水箱-水泵-混合床-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-精密過濾器-用水對象

　　·預處理-一級反滲透-加藥機(PH調節)-中間水箱-第二級反滲透-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象

　　·預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象

　　·預處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-0.2或0.5μm精密過濾器-用水對象

　　應用場合：

　　·半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路;

　　·超純材料和超純化學試劑;

　　·實驗室和中試車間

　　·汽車、家電表面拋光處理;

　　·其他高科技精微產品。